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화학에칭의 기초
Wet etching

등록 2008.09.03 ⋅ 54회 인용

출처 표면기술, 55권 7호 2004년, 일본어 5 쪽

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.22
금속의 부식현상을 이용한 가공방법을 에칭 또는 화학가공이라 부르며, 공업적인 에칭을 이용한 기술인습식방법의 개요와 에칭의 기초를 설명
  • 니켈 Ni - (5~6 wt. %) 붕소 B 피막의 개선으로 경질크롬이 설정한 많은 성능 표준을 충족하거나 능가하는 뛰어난 경도와 내마모성이 나타낸다. 현재, 무전해 니켈-인 유도...
  • 전극의 sintering 현상과 Creep 문제점을 해결하며 동시에 고온 가압의 환경하에서 장시간 운전에 안정된 구조를 유지할수 있을것으로 사료되는 Ceramic-metal 복합재료 전...
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  • 염화금 · Gold Chloride 염화제일금 (AuCl(I)) 과 염화제이금 (AuCl3(III)) 으로 나누어지며, 금을 왕수에 용해하면 염화제이금이 생성되고 이것을 염산과 혼합하여 염화금...
  • 소형 전자 장치는 주로 미세 패터닝 기술을 사용하여 생성된다. 무전해 Ni-P/Au 도금은 이러한 인쇄회로 기판의 금속 마감에서 중요한 역할을 한다. 패턴 형성 능력을 향상...