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복합 무전해 도금법에 의한 신규 자성저립의 제작과 그 포스트 CMP 기술에의 응용
Development of New Magnetic Abrasives by using Electroless Composite Coatings and Its Application to the post CMP Technology
등록
:
2015.03.24
⋅ 7회 인용
출처
:
표면기술
, 56권 6호 2007년, 일어 5 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Keiko HANZAWA
1)
Sachio YOSHIHARA
2)
Takashi SHIRAKASHI
3)
기타
:
複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への応用
자료
:
분류 :
무전해복합도금
⋅
CMP
⋅
자성연마
⋅
목록
plating.kr 로고
장식용 황산구리도금 광택제
도금 첨가제 원료공급
자료요약
카테고리 :
응용도금
| 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
CMP 를 대체하는 새로운 기술로서 자기연마법에 착안하여, 이를 이용한 새로운 자성연마의 개발을 목적으로한 실험
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