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펄스전해법에 의한 비정질 팔라듐 피막의 전석
Electrodeposition of amorphous Palladium films by pulse current electrolysis

등록 : 2008.08.12 ⋅ 35회 인용

출처 : 금속표면기술, 38권 2호 1987년, 일어 3 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.02.16
NaAsO2를 함유한 에틸렌디아민팔라듐(ii) 착화용액으로 부터 펄스전해법으로 전석한후, 비정질 팔라듐 피막을 만들어, 전해조건의 영향과 피막의 비정질화의 원인을 고찰
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  • 시안화물은 독성이 있으며 확장적인 산업폐수처리가 필요하다. 구리를 전기도금하기 위한 비시안화물 알칼리 용액을 개발하려는 시도가 있었다. 석판을 검토한 결과 비시안...
  • 일렉트로닉스에 있어서 기술혁신은, 고신뢰성 고밀도화 경제성, 열처리성에서의 새로운 기능개발을 필요로하고 있어, 주요 재료를 도금기술과 함께 설명
  • 광택니켈도금과 피로인산욕에서의 주석-니켈 합금도금을 경시변화 및 여러 가속경시처리에 의한 부식환경하에 폭로하여, 접촉저항을 측정하여 비교검토한 자료
  • 전 염화물 니켈도금 ^ All Chloride Nickel Plating bath 철소지상의 황산구리도금의 하지도금인 [시안화구리도금|시안화 구리도금]을 대신한 니켈도금으로, 파이프 재료 등...