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반도체 부품용 팔라듐 전기도금에서의 첨가제 특성에 관한 연구
A Study on the characteristics of additives in electrodeposition of palladium for semiconductor packages

등록 2008.08.22 ⋅ 53회 인용

출처 na, na, 한글 4 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.06.01
반도체용 팔라듐 전기도금에서 유기물 첨가제를 넣었을 때 팔라듐 전극반응과 도금표면의 관계를 Cyclic votammetry와 AFM으로 관찰하였다.
  • 차아인산염 ^ Hypophosphite Salt 차아인산ㆍ포스핀산 포스핀산염은 알칼리 토류 금속염인 망간ㆍ아연ㆍ랜터노이드와의 화합물이 알려져 있으며, 어느 것도 이온성 화합물로...
  • 초소형 전자기기의 성능이 크게 향상되면서 금 Au 도금 제조공정에 대한 수요가 증가했다. 지속적인 도금욕 관리와 이에 따른 시너지 작동 모델의 적용을 통해 고품질의 금 ...
  • 2M-5S 와 유사기구를 가진 각종첨가제를 이용하여 그 효과를 조사하고, 효과가 있는 구성원소 또는 관능기에 관한 연구 2,2-메르캅토 벤즈이미다졸 2-메르캅토-5-메틸 벤즈...
  • 무기재질 소재 (납계 화합물 소결체) 에 적용가능한 전처리법과 이를 이용한 무전해니켈 도금을 만들기 위한 목적
  • 붕불화 전해액을 사용한 납-주석 Pb-Sn 합금에 대하여 전해조건(파형인자 및 온도)의 변화에 따른 표면조직 및 우선배향의 변화를 조사하고 그 상호 연관성을 검토함을 목적...