로그인

검색

검색글 11081건
반도체 부품용 팔라듐 전기도금에서의 첨가제 특성에 관한 연구
A Study on the characteristics of additives in electrodeposition of palladium for semiconductor packages

등록 2008.08.22 ⋅ 47회 인용

출처 na, na, 한글 4 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.06.01
반도체용 팔라듐 전기도금에서 유기물 첨가제를 넣었을 때 팔라듐 전극반응과 도금표면의 관계를 Cyclic votammetry와 AFM으로 관찰하였다.
  • 에너지 효율이 좋은 자원의 소비와 유해물질의 배출을 대폭절감할수 있는 연료전지에 관하여 종류와 특징등을 소개하며 팔라듐 촉매에 관하여 설명 (팔라듐은 산소 수소를 ...
  • 크롬산 및 40~100 g/ 의 설포 아세트산으로 구성되고 실질적으로 카복실산, 불화물, 요오드화물, 브로마이드 및 셀레늄 이온이 없는 크롬 도금욕이 기술된다.
  • IC 장치 속도를 높이려면 RC 지연을 줄이는 것이 중요하다. Cu 는 인터커넥트의 저항률을 낮추기 위해 채택되었으며 유전상수를 낮추기 위해 몇 가지 물질을 연구하였다. 은...
  • 수용성 금염, pH 조절제, 촉매, 알킬 아민 보란을 포함하는 용액외에 착화제로 0.1~10 ml/l 의 에틸렌 디아민과 0.1~10 g/l 의 헥사 메틸 렌 테트라민을 함유하는 무전해금 ...
  • 하나 이상의 에피할로 히드린과 하나 이상의 질소 복소환 화합물의 반응에 의해 제조된 저 분자량 중합체의 수용액이 아연 전기도금욕에 첨가되는 아연 전착욕으로부터 광택...