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무전해 코발트-인 석출
Electorless cobalt-phosphorus deposition

등록 : 2017.10.20 ⋅ 37회 인용

출처 : Bull of electrochem, 6권 4호 1990년, 영어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

Bullentin of electrochemistry

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.09
1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 영향을 연구 하였으며, 소재와 석출피막 사이의 밀착력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
  • 질화처리 · Nitriding 소재 표면층에 질소를 확산 침투한다. 처리온도는 475~580 ℃. 처리전에 열처리와 기계가공을 한다. 소재별 적용 가스 질화는 질화강 (CrㆍMoㆍAl 등 ...
  • 스트레스 텝 · StressTabs [헐셀] 시험용 음극 시편으로 도금액의 [응력]을 시험할 수 있도록 고안된 시편, 미국 래리킹 사의 제품 참조 [헐셀시편] [헐셀시험] [헐셀조] [...
  • 폴리이미드에 실적이 있는 낮은 오존농도의 오존 마이크로나노 버블수를 ABS 수지에 적용하여 개질효과의 확인하였다.
  • Alecra 3 process의 욕조성중 포름산칼륨으로, 염화칼륨을 염화나트륨으로 대체한 욕의 전착특성을 조사하고 최적 염화크롬의 농도와 착화비를 함께 조사하여 다음과 같은 ...
  • 구리전석에 있어서 첨가제의 흡착기구를 전기화학적으로 해석한 결과에 관하여 설명하였다. 황산구리욕에서 광택평골 전석피막은 PEPEG 염소 Cl-, SPS 또는 MPS 의 3성분을 ...