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무전해 코발트-인 석출
Electorless cobalt-phosphorus deposition

등록 2017.10.20 ⋅ 42회 인용

출처 Bull of electrochem, 6권 4호 1990년, 영어 2 쪽

분류 연구

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Bullentin of electrochemistry

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.09
1~4 μm/hr 의 석출속도와 3~7 % 의 인 석출물로 황산/시트레이트를 기반으로하는 도금액을 개발하였다. 석출속도에 대한 pH, 온도, 욕조성, 양이온, 음이온 및 기본첨가의 영향을 연구 하였으며, 소재와 석출피막 사이의 밀착력이 우수한 것으로 밝혀졌다.
  • DuPont ™ ZA100CL™ chemical microetchant is mildly acidic peracid material used for copper cleaning and surface preparation in printed wiring board fabrication. Z...
  • 도금의 대상인 금속재료의 표면에는 흡착층, 산화피막, 유지, 가공변질층 등이 존재하여 크게 복잡한면을 이루고 있다. 정확한 전처리를 위하여, 이들 표면을 이해할 필요가...
  • 1975년 최초로 실용화에 성공한 주석-아연 합금도금약품이다. 자동차 및 내 염해 대책용 도금으로 뛰어난 성능을 발휘하며 연성이 좋아 2차 가공 내식성이 우수하다.
  • 스테인리스강 316 조성에 해당하는 70 % wt 철 Fe, 10 % wt 니켈 Ni 및 20 % wt 크롬 Cr 합금의 전착은 회전 디스크전극 (RDE) 과 글리신을 착물로 사용하여 분리된 셀을 사...
  • 크롬도금의 리스크 저감을 주제로하여, 크롬도금의 규제동향, 도금현장의 6가크롬 저감을 소개하며 3가크롬 도금개발에 관하여 소개