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LSI 구리배선과 습식 프로세스
Wet processes for making Cu interconnection in LSI
자료 :
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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.12.24
구리배선 형성에 습식방법이 중요한 역할과 방법에 관하여 설명
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일반적으로 니켈 전기도금조와 관련된 아연, 구리 및/또는 철 불순물은 아연, 구리 및/또는 아연을 전환시키기에 충분한 양의 디메틸디티오카바메이트 또는 디부틸디티오카...
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구리위에 팔라듐의 연속적인 나노미터 및 마이크로미터 두께의 무전해 석출을 위한 다양한 방법중 변위 도금 공식을 사용하여 6~22nm의 등가 두께를 가진 초박막을 석출하였...
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크롬옥소 화합물인 Cr (가전자 구조 3d 54s1) 의 고유한 화학적 및 전자적 특성은 철 및 비철 재료의 부식을 억제하는 독특한 기능을 제공한다. Cr 의 전자적 특성은 Cr6+ ...
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니켈도금 첨가제의 반응 ^ Electrolytic Nickel Plating Additives [광택니켈도금|광택 니켈도금]은 장식용 도금 등으로 많이 이용되고 있으며, 첨가제는 [사카린]ㆍ[나프타...
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제 6장 양극산화 피막후의 착색처리 제 7장 봉공처리(封孔處理:Sealing) 제 8장 화학피막처리(化學皮膜處理) 제 9장 양큭산화 설비 전반 제10장 시험방법 (試驗方法) 제11장...