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과량전류밀도로 석출된 니켈피막
Dull nickel film electrodeposted under excesscurrent density

등록 : 2008.08.23 ⋅ 35회 인용

출처 : 표면기술, 44권 4호 1993년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.08.15
통상의 무광택 와트욕을 이용한 전기도금중, 적극적인 수소가 발생함에 따라 과량전류밀도로 니켈을 전석하고, 그 피막에 관하여 검토

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