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1-히드록시에틸렌-1,1-디포스폰산 전해질로부터 구리 전착에 대한 트리에탄올아민의 메커니즘
Mechanisms of Triethanolamine on Copper Electrodeposition from 1-Hydroxyethylene-1,1-diphosphonic Acid Electrolyte

등록 2017.11.19 ⋅ 43회 인용

출처 Eelectrochemical Society, 164권 12호 2017년, 영어 4 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

JIngwu Zheng1) Haibo CHem2) Wei Cai3) Jie Zhou4) Liang Qiao⁵) Liqiang Jiang⁶)

기타

1-Hydroxyethylene-1,1-diphosphonic acid
Triethanolamine

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.30
두 번째 리간드로서 트리에탄올아민 (TEA) 의 효과는 1- 하이드록시에틸렌 -1,1- 디포스폰산 (HEDPA) 전해질에서 구리의 전착을 연구하였다, 구리전착의 전기화학적 거동은 주기적 전압전류법과 전기화학적 임피던스 분광법에 의해 조사하였으며, TEA 는 구리의 전착을 억제하고 구리 양극의 용해를 촉진하여 미세한 입자와 ...