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구리 전착에 있어서 염화물 소모
Cl- Consumption in Copper Electrodeposition

등록 : 2009.07.11 ⋅ 32회 인용

출처 : na, na, 영어 1 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

자료 :

자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.29
구리 수퍼필링은 산성 황산구리 전기도금조에 첨가제 (일반적으로 PEG, Cl 및 SPS) 의 존재에 의해 달성다. 최근 수퍼필링 메커니즘 중 하나로 할로겐 이온 농도가 감소하여 트렌치 바닥에 빠른 전착이 발생하는 할로겐이온 소모 모델을 제안했으며, 구리 상향식 전착도 추가로 구현되었다. 산성 황산구리 도금조에서 PEG 및...
  • 종래에 사용되고 있는 내층구리(동)박 처리 및 내약품성이 개선된 새로운 구리박(동) 처리에 관한 설명
  • 전기화학당량 ^ Electrochemcial Equivalent [전기도금]에서 전류를 흘리면 전기분해가 일어난다. 이때 흐른 전류량에 따라 석출되는 원자 또는 원자단의 질량 ( g 수) 을 ...
  • 합금도금의 기초로서 함금전착과정과 전착합금의 성태와의 관계를 규명하고, 전기화학과 금속학과의 경계영역(금속전기화학)의 문제의 하나로생각한 입장에서, 종래의 연구...
  • 코발트, 니켈 및 철을 포함하는 3개의 산성 시안화욕에서 금의 레이저강화 전착(LEE)에서 우세한 일부조건을 시뮬레이션하기 위해 고온 및 고압에서 금도금을 수행했다.
  • 브라인드 비아홀 ^ Blind Via Hole 다층 [인쇄회로]판 (MLB) 에서 2층 이상을 도체층으로 하여 연결하는 도통홀로써 홀의 양쪽면 중 한쪽만 외부에 나타나 있고 나머지 반대...