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염화구리-염산 마이크로 에칭 방법
Cupric chloride-HCl acid Microetch Roughtness Process

등록 : 2009.09.03 ⋅ 83회 인용

출처 : Onboard technology, Sep 2008, 영어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

자료 :

자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.07
염화구리 에칭 용액에서 구리농도는 125~175 g/L 로 유지된다. 이것은 1.2393~1.3303 의 비중에 해당 된다. 합리적인 마이크로 에칭속도에 도달하기 위해, 마이크로 에칭 용액의 구리농도는 MultiPrep 화학에 대해 35 g/L 에서 45 g/L 사이로 유지되어 일정한 마이크로 에칭 속도를 얻는다.
  • K COPPER-1은 산성구리도금용 광택제로서 종래의 성능을 개량하여, 광택과 레벨링이 우수하며 고속도 도금이 가능합니다. 광택제의 소모량이 적어 생산비가 절감되며 품...
  • 현재 밀도의 함수로 도금화학을 평가하기 위해 수년 동안 산업산업에 재현 불가능한 질량 전달로 인해 헐셀 Hull Cell은 공정제어를 위해 질적으로 만 사용할수 있다.
  • 염화물욕에서 아연-니켈 합금 전착성에 대한 첨가제의 영향을 전기화학 방법, SEM 을 이용한 미세조직 관찰, 표면외관 및 X-선회절법 등으로 조사하였다. 실험에 사용된 첨...
  • PRTR 집계 작업을 시작하기 전에 각 사업소의 표면처리공정 개요도를 작성하고 어떤 지정화학 물질 (이하, 대상화학물질)을 취급하고 있는지, 그 물동량 등을 조사해야 한다...
  • 크롬 도금의 경우, 크롬산과 함께 소량의 황산염 이온이 필수적입니다. 황산 이온이 없으면 크롬욕은 광택도금을 생성하지 않고 갈색 피막을 생성합니다. 황산염 이온은 100...