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화학연마에 관하여 (1)
化學研磨について (その1)

등록 2009.12.29 ⋅ 62회 인용

출처 금속표면기술, 3권 5호 1952년, 일어 5 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.28
화학연마를 말하는 새로운 용어는 1948 년 미국 특허에 처음 "Chemical Polishing" 라는 용어에서 발견되었다. 그 후 이 연마 방법은 금속 표면기술계의 새로운 기술로 주목 받고 최근 수년간 활발한 연구가 계속되고 있는 전해 연마와 늘 함께 각 업계에 이용된다. 화학 연마 작업 자체가 옛날부터 도금 업체간에 알려진 화...
  • 내열성이 높은 수지표면에, 도금법으로 회로를 형성하는 성막기술은 여러 방법이 있으나, 대부분의 회로성형에 사용되는 구리배선상의 마무리처리로서, 무전해니켈도금법을 ...
  • 전자 장치용 적층 구조체는 구리박을 갖는 프린트회로 기판과, 주석 또는 은 Ag 으로 이루어지고 프린트 회로 기판상에 형성된 언더코트 도금층과, 무전해도금에 의해 언더...
  • 탄산염 축적은 알칼리 아연도금의 품질에 영향을 미칠수 있다. 이는 양극을 통한 큰 전류밀도와 수조에 부품을 배치할때 이산화탄소가 유입되기 때문에 발생한다. 몇가지 방...
  • 하이브리드 전기자동차의 전원으로는 니켈수소전지, 리튬이온전지, 캐패시터, 또는 이러한 조합 등이 후보에 올라있다. 이들 중 리튬이온 전지는 안전성 확보와 저렴화가, ...
  • 아연계 표면처리 강판의 방청기구 해명과 일본 철강협회의 연구결과를 중심으로 부식기구에 관하여 설명