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초임계 유체를 이용한 선단 반도체 세척기술
Leading-edge semiconductor wafer cleaning technlogy using supereritical Fluids
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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.18
차세대 LSU 프로세스를 향한 미량의 약제를 첨가하여 초임계 CO2 를 이용한 실리콘웨이퍼 표면세척의 기술을 함에 있어, 그 연구배경과 성과를 요약하여 소개
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ABS 수지 ^ acronitrile-butadiene-styren resin 뛰어난 성형성과 2차 가공성을 갖고 있으며 용도에 따라 많은 그레이드 (종류) 로 나누어지고 있다. ABS수지는 "아크로니트...
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트랜지스터 헤더의 도금에 적합한 자동촉매 시스템은 시장에 나와 있지 않으며 이러한 시스템을 개발하려는 저자의 시도는 실패했다.
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전기니켈이나 무전해니켈등의 도금액에 축저된 반응생성물의 제거법으로, 이온교환기술이 이용되고 있으며, 이온교환막을 이용한 각종 투석법은 금후 기대되는 유망한 처리...
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STRIPPER NCNS is a high performance powdered material, when dissolved in tap water, will chemically remove electrolytic and electroless nickel deposits from stee...
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다양한 아연화 조건에서 무전해 니켈-인 (EN-P) 도금을 알루미늄 6061 합금의 전기화학적 거동을 평가하였다. 아연산염 (징케이트) 첨가제 (음이온 계면활성제 [[도데실설폰...