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초임계 유체를 이용한 선단 반도체 세척기술
Leading-edge semiconductor wafer cleaning technlogy using supereritical Fluids
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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.18
차세대 LSU 프로세스를 향한 미량의 약제를 첨가하여 초임계 CO2 를 이용한 실리콘웨이퍼 표면세척의 기술을 함에 있어, 그 연구배경과 성과를 요약하여 소개
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무기분체를 이용하여 여러 가지 응용개발이 가능한 것 중에서 앞으로 이용이 기대되는 전자파차폐용의 전도성 충진재의 제조에 있어서의 도금기술과 분체상에의 도금기술을 ...
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콘크리트중의 철근에서 철 Fe2+ 이온의 용출에 의한 부식생성물의 형성과 그 결과 철근주위에 유도되는 인장응력에 의해 콘크리트가 균열 발생기구를 전호에서 말했다. 그 ...
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도금조가 팔라듐 공급원 및 비소 공급원을 포함하는 팔라듐 비소 전기 도금 방법
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리사이클방법으로는 다단향류수세에 의한 절수법, 이온교환에 의한 최종수세수의 복환재생법, 폐수에서 크롬산 이온을 아니온교환수지에 흡착하는 방법등이 있다.
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다양한 농도의 Si3N4 나노입자를 포함하는 설파민산-DMF (N,N-디메틸포름아미드) 욕으로부터 다양한 전류 밀도 0.5 ~ 3.0 A dm-2 를 적용한 Ni-Fe/Si3N4 나노복합체의 성공...