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포름알데히드 프리 무전해 구리도금 석출에 대한 연구
Studies on Formaldehyde-free Electroless Copper Deposition

등록 2023.01.15 ⋅ 100회 인용

출처 Plating & Surface Finishing, Jul 2002, 영어 3 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.01.15
포름알데히드가 없는 무전해 구리 도금 공정을 개발을 연구하였다. 글리옥실산을 환원제로 사용하여 도금욕을 최적화 하였다. 온도, 환원제 및 착화제의 농도와 같은 도금욕 변수를 연구하였다. 구리 도금에 대한 글리옥실산의 영향은 정전류 분극 측정을 사용하였다. 구리 도금의 구조를 확인하기 위해 SEM 도 사용하였다.
  • 아연도금강판을 대상으로 하여 10~30 mg/m2 을 갖는 용액조성에서 용액의 유리산도 및 황산이온농도 변화에 따른 피막 부착량의 변화, 표면외관 및 내식성 등의 피막 특...
  • 배출한도 준수 물, 화학물질 소비감소 물 재사용 사용자 요금 방지 모니터링 비용절감 위험감소 무슨일이 일어나고 있는지에 대한 지식향상 제품품질 향상
  • 평균 광디스크에 인코딩된 정보는 평균 직경이 0.2 ㎛ 이다. 이 공차는 전기주조 공정 정확도의 범위내에 있으며, 디스크 몰드 전기주조는 오늘날 니켈 전기주조 공정에서 ...
  • Ni-P의 무전해 도금이 다이아몬드 입자에 성공적으로 석출되었다. 미세 단층 촬영을 수행하여 석출 메커니즘을 연구하였다. 이를 통해 다이아몬드 입자의 피복률은 도금 시...
  • 스루홀형성의 전기 구리도금의 평활성과 구리도금하는 경우에 있어서 전류효율과 구리도금막의 체적 저항율에 대한 자장효과를 검토 [プリント基板配線形成用めっきに關する...