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인쇄회로기판용 홀 금속화 기술 연구 진행
Research progress in hole metallization technology for printed circuit boards

등록 2023.12.24 ⋅ 90회 인용

출처 Plating and Finishing, 45권 12호 2023년, 중국어 6 쪽

분류 연구

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印制线路板的孔金属化技术的研究进展

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.17
인쇄회로 기판의 금속화 공정은 무전해 구리도금 공정을 통해 이루어지고 있으나 이 처리 공정은 복잡하고 번거로우며 활성화를 위해 귀금속을 사용하고, 환원제로 발암성 포름알데히드를 사용한다. 인쇄회로 기판의 업그레이드 및 개발에 있어서 표면 처리에 대한 높은 요구 사항을 더 이상 충족시킬 수 없는 단점...
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  • 도금 전 황산파라듐의 황산 농도가 높을 때와 낮 때의 촉매에 미치는 영향에 대해서 알고십니다.
  • 염화암모늄 아연도금욕 ^ Ammonium Chloride Zinc Bath 욕중의 반응 Zn(NH4)2Cl4 + 2NH3 + 2OH - ↔ Zn(NH3)4Cl2 + 2H2O + 2Cl - Zn(NH3)4Cl2 ↔ Zn(NH3)4Cl2++ + 2Cl - Zn(NH...
  • 전착층의 조성, 전해조건등에 관하여 검토하고, 광택제로서 무기금속염류, 멜캅탄류, 환형알데하이드, 기타의 유기고분자 화합물을 이용하여 전착의 영향을 조사
  • 여러종의 아민산을 이용하여 배위능력과 아민산의 성질에 따라 주석-니켈 Sn-Ni 합금도금의 석출 반응등의 영향과 욕중의 아민산의 거동에관한 연구