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고속부분도금 - 달릭 프로세스의 응용예-
High-Speed partical plating -application of the Dalic process-

등록 2010.01.11 ⋅ 44회 인용

출처 실무표면기술, 29권 11호 1982년, 일어 7 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.27
고속부분도금법인 달릭 프로세스를 이용한 쉬운 부분도금의 현장적용기술에 관한 설명
  • 전기도금에 의한 니켈-인 합금막의 형성에서, 전류밀도, 아인산농도, 욕의 pH 및 온도가 도금막변형과 막내인함유량 및 결정구주에 있어서 영향에 관하여 검토 하였다. 인산...
  • L-셀 · (L-Cell) 미국의 L-Chem 에서 고안한 새로운 실험용 도금조로 음극에 미리 결정된 서로 다른 전류 밀도로 금속을 동시에 전착한다. 각 세그먼트에 대한 전류·전압 데...
  • 저용해 아연양극 ^ Low Soluability Zinc Anode [아연도금욕]중의 아연은 작업 중지에도 알칼리도에 따라 일정부분 용해된다. 이를 방지하기 위하여 아연에 약간의 마그네슘...
  • 무전해 도금 폐수에 포함된 인산 류, 유기산 류 등을 효율적으로 제거할수 있고, 게다가 특정 성분을 선택적으로 제거할수 있는 새 무전해도금액의 처리방법을 제공한다. 차...
  • 포름알데하이드를 사용하지 않고 무전해구리 도금공정에 사용되는 무전해구리 도금액을 제공한다. 이를 위해 무전해구리 도금공정이 개시되어 있는데, 이는 수지 소재에 팔...