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프린트배선판에 있어서 에칭 기술의 동향
Technical Trend on Etching for High Density Printed Wiring Boards
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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.08
프린트배선판의 회로형성 에칭기술에 관하여, 회로의 미세화의 동향과 포토레지스터에 의한 미세화상형성기술의 현황 및 에칭기술의 동향에 관하여 해설
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직경 3 μm 에서 200 nm 범위의 폴리스틸렌 마이크로 입자를 사용하여 실리콘 요철구조의 주기를 나노미터 오더까지 미세화 시키는 것을 검토했다. 또한 2액법 활성화 전처리...
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디페닐 카바메이트 비색법에 의한 6가크롬 용출시험에 관한 설명
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아연·카드뮴 도금의 문헌을 종합적으로 고려하면 최근 현저한 발달을 보이고 있다, 예를들면 광택 도금 또는 도금후의 크롬산처리가 그것이다. 이 발달과정에서 연구발표는 ...
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아연-니켈 합금용 3가 크로메이트제
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와트욕과 저농도 니켈욕 (황산니켈 75 g/l, 염화니켈 110 g/l, 붕산 30 g/l )에서 광택 및 반광택 니켈도금의 성질에 관하여 비교 검토하고, 저농도 니켈도금의 장단점을 설명