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프린트배선판에 있어서 에칭 기술의 동향
Technical Trend on Etching for High Density Printed Wiring Boards

등록 : 2008.09.08 ⋅ 66회 인용

출처 : 표면기술, 49권 10호 1998년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.08
프린트배선판의 회로형성 에칭기술에 관하여, 회로의 미세화의 동향과 포토레지스터에 의한 미세화상형성기술의 현황 및 에칭기술의 동향에 관하여 해설
  • 일반적인 크롬 프리 부동태 기술은 무기, 유기 및조성에 따른 무기 유기 복합 부동태 기술과 각각의 장단점이 있다. 무기부동태 막의 경우, 내열성은 탁월하지만 내식성은 ...
  • Amino silylated glass beads 는 염화팔라듐 PdCl2 수용액에서 팔라듐 Pd2+ 이온과 쉽게 결합할수 있으며, 이러한 Pd2+ 가 결합된 비드를 고온에서 차아인산소다 NaH2PO2수...
  • DEP
    DEP (Diethylaminopropyne) ^ 1-N,N-diethylamino-2-propyne DEP 는 알킨아민 화합물이며 니켈도금에 일반적으로 사용되는 첨가제로 도금을 섬세하고 풍성하게 만든다. C7H1...
  • 황산, 에틸렌디아민, 구연산및 붕불산 용액에서 질화탄탈륨 TaN 으로의 구리핵 생성 및 성장에 대해 보고 하였다. TaN 의 구리도금 시작은 용액 화학에 따라 백금 Pt 증착에...
  • 전기량 · Quantity of Electricity 전류와 흐른 시간의 곱을 전기량 이라고 하며 쿨롱 (C) 으로 표시한다. 1 A 전류가 1 초간 흐른다면 1 쿨롱 (C)이 된다. 물질에 1 [화학...