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프린트배선판에 있어서 에칭 기술의 동향
Technical Trend on Etching for High Density Printed Wiring Boards
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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2016.04.08
프린트배선판의 회로형성 에칭기술에 관하여, 회로의 미세화의 동향과 포토레지스터에 의한 미세화상형성기술의 현황 및 에칭기술의 동향에 관하여 해설
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베리어형 양극산화 피막에 관한 해설과 양극산화의 역사에 관하 설명을 병용하여 해석하며, 포러스 피막을 이용한 나노 테크로지에 관한 연구를 소개
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실리카 졸, 아루미나 졸, 이산화티타늄 졸 각각의 졸 용액에 니켈분말을 혼합한 후에 이 물질을 다공성 스테인리스 스틸 지지체의 표면위에 실험조건에 따라 코팅하여 중간...
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유리 시안화소다 (프리시안) ^ Sodium Free Cyanide 시안화물을 함유한 도금액중, 도금액 내에서 금속염 시안화물과 시안화소다가 반응을 하여 금속염 시안화물 소다 또는 ...
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광택 아연 프로토룩스 3000 프로세스는 정지욕 (rack) 및 회전욕 (barrel) 용의 광택 아연도금을 위한 시안이 없는 환경친화적인 알칼리 아연도금 프로세스이다. 도금층은 ...
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전석막에 필적하는 특성을 가지며, 미세화의 이점을 가진 무전해 팔라듐-인 Pd-P 피막의 개발 PdCl2 NaH2PO2 NH4OH Thiodiglycolic acid NiSO4 0.01 mol/l 0.20 mol/l 2.96 ...