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습식에칭의 기초와 응용
Wet etching -theory and application

등록 2008.09.03 ⋅ 70회 인용

출처 표면기술, 49권 10호 1998년, 일본어 7 페이지

분류 연구논문

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2012.11.08
인쇄제판 및 예술분야에서는 에로부터 습식에칭은 포토레지스터와 아트웍의 제판기술로 발전하여, 반도체산업과 전자 전기기계의 부품제조등에 없어서는 않될 중요기술로 발전하였다. 습식에칭 특히 포토에칭의 기초와 프로세스에 관하여 간단한 설명과 취근의 응용제품에 관하여 그 특징을 설명
  • 무전해 니켈도금용 광택첨가제 Innotive ENP-6592 는 연속도금에서 광택 지속성이 우수합니다.. 건욕시 Innotive ENP-6592의 건욕시 표준 첨가량은 0.5~1.0 ml/l 를 기준으...
  • 습식도금의 종류 물체의 표면 상태를 개선할 목적으로 다른 물질의 얇은 층으로 피복하는 것으로, 일반적으로 금속 표면에 다른 금속 또는 합금의 얇은 층을 입히는 것을 말...
  • 전기도금용 주석광택제는 매우 넓은 전류밀도 범위에서 균일한 도금을 생성하기 위한 다양한 트리알킬 벤즈알데하이드를 포함한다.
  • 참조 1. 한글 2. 영어 - 도금두께 분포가 대단히 양호 (25% 도금두게 오차) - 높은 경면광택 크롬에이트처리 용이 - 고전부의 타는 현상이 적어, 고전류 작업 가능 - 외부 ...
  • pH 완충 용액 ^ pH Buffer Solution 일반적으로 산이나 염기를 가하여도 공통 이온 효과에 따라, 그 용액의 수소이온 농도 (pH) 가 크게 변하지 않게 하는 용액을 말하며, ...