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습식에칭의 기초와 응용
Wet etching -theory and application

등록 2008.09.03 ⋅ 70회 인용

출처 표면기술, 49권 10호 1998년, 일본어 7 페이지

분류 연구논문

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2012.11.08
인쇄제판 및 예술분야에서는 에로부터 습식에칭은 포토레지스터와 아트웍의 제판기술로 발전하여, 반도체산업과 전자 전기기계의 부품제조등에 없어서는 않될 중요기술로 발전하였다. 습식에칭 특히 포토에칭의 기초와 프로세스에 관하여 간단한 설명과 취근의 응용제품에 관하여 그 특징을 설명
  • 입자-이온간의 상호작용이 중요하며, 산성황산구리계를 검토하여 공석을 지배하는 인자에 관한 설명
  • 금도금 및 도금마감의 품질에 영향을 미치는 다양한 설계변수에 대해 자세히 설명하고 전기도금에서 발생하는 주요 어려움과 이를 제거하거나 최소한 감소할수 있는 방법에 ...
  • 소량의 Cr(vi) 를 함유한 황산아연 욕에서 전착된 아연층은 내식성이 매우 높은 것으로 나타났다. 이 발견에 동기를 부여하여, 화학분석, X-선회절 분석, 전자프로브 미세 ...
  • 은 도금욕 · Silver Plating Bath [은도금] 스트라이크용 1~2 g/l 시안화은 0.8~1.6 g/l (금속은) 80~150 g/l 시안화칼륨 80~150 g/l (유리시안화칼륨) 작업온도 상온 음극...
  • 무전해 니켈 복합도금으로 가능한 성능 및 비용 이점을 검토하였다. 다이아몬드, 탄화 규소, 질화 붕소, 폴리 테트라 플루오로 에틸렌 (PTFE)의 네 가지 특정 유형의 복합 ...