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범프도금용 포로레지스트의 현황
Recent Photoresist for bump plating

등록 2010.01.21 ⋅ 42회 인용

출처 표면기술, 44권 6호 1993년, 일어 5 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.20
포토레지스트의 두께막화 고감도화 스트레이트화 내도금성 및 사용방법에 관하여 설명
  • 전해에 의한 시안화물의 처리에 대하여 설명 [시안廢液 電解處理]
  • 다이아몬드, 실리콘 카바이드, 질화 붕소 또는 PTFE 입자로 강화된 무전해 니켈도금은 복잡한 표면에 특정 마모 및 윤활 특성을 부여할수 있다. 무전해 니켈 복합피막으로 ...
  • 마그네슘합금 제품의 표면처리공정은 일반적으로 기계적, 화학적 전처리와 산세 공정을 거친 후에 전기 또는 전기화학적 처리, 하지도금처리 등을 실시하며 최종적으로 도장...
  • 도금에 의한 접속을 대신하는 전도성 페스트를 이용하는 방법, 전도성 페스트를 이용한 일괄적층방법의 개발
  • 사이잘 섬유는 비전도성 물질이기 때문에 무전해 니켈 인(ENi-P)으로 천연 섬유를 도금하기 위해 독특정 실험을 설정하여 시도하였다. 변형된 천연 섬유의 표면 형태, 성분 ...