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범프도금용 포로레지스트의 현황
Recent Photoresist for bump plating
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분류
포토레지스터 ⋅
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.20
포토레지스트의 두께막화 고감도화 스트레이트화 내도금성 및 사용방법에 관하여 설명
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보호층은 특정기간 동안 변경없이 유지되어야한다. 그러나 장기적으로 이러한 재료는 특성을 잃어 버리고 금속 조각의 기능을 손상시킨다. 최근 전착합금의 사용을 개발되었...
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ABS 수지가 도금 소재로 사용된지 5 년이된다. 그 동안 수지, 디자이, 금형, 성형법, 도금공정 등, 갖가지 문제 대해 많은 사람들이 학술적인 추구 거쳐 실험실적을 쌓아야 ...
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뛰어난 내식성, 내크롬 용출성 및 페인트 도장성을 가진 크로메이트 피막은 Cr6+ 및 Cr3+ 이온으로 이루어진 무기성분, 왁소, 유기 플루오르 화합물 및/또는 중합성 화...
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X-10 (TX-10), 나트륨 메틸렌비스 (나프탈렌 설포네이트 / NNO), 페닐벤질케톤 (PBK) 및 CH-1 광택제와 같은 일부 기존첨가제가 유리질 탄소전극에 아연전착에 미치는 영향...