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무전해 도금에 의한 비스무스 피막의 형성
Formation of bismuth films by electroless plating

등록 : 2008.08.07 ⋅ 68회 인용

출처 : 표면기술, 44권 2호 1993년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.11
환원제로 염화주석(ii), 착화제로 구연산, 니트릴 3삭산 및 EDTA 를 이용한 무전해 비스무스도금

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