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습식표면처리의 물리화학
Physical chemistry of Aqueous Processing on Material Surface

등록 2013.01.03 ⋅ 34회 인용

출처 MMIJ, 125권 6호 2009년, 일어 6 쪽

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자료요약
카테고리 : 일반자료통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.22
습식표면처리를 열역학적 개요에 관하여 설명
  • 석출된 무전해니켈은 비정질 피막이다. 400 ℃ 에서 열처리하면 일부 PTFE가 니켈 매트릭스로 확산되는 확산층이 생성되어 Ni-PTFE 복합도금이 완전히 결정화 되어 ...
  • 산화 · Oxidation 산화는 산소와 화합하여, 수소와 전자를 잃는것을 말한다. [환원] [산화제] 참고 [산화환원반응|산화환원 반응] 레독스 [금속산화환원반응|금속 산화환원 ...
  • 염화아연 • Zinc Chloride ZnCl2 = 136.27 g/mol CAS 7646-85-7 용해도 432/100 gr 물 25도 공기중에 조해 흡수하는 백색의 분말로 물에 잘 녹는다. 산성 [염화아연도금욕] ...
  • 주석산 · Tartaric Acid CAS No 526-83-0 C5H6O6 = 150.087 g/mol 보통 주석산 이라 부르는 2개의 탄소원자를 가진 L-tataric acid 와 D-tartalic acid 가 있으며, 단순히 L...
  • Si-ULSI (초대형 통합) 장치에 사용되는 전기 도금된 구리 Cu 인터커넥트의 보이드 형성 메커니즘을 이해하기 위해 유기첨가제가 있거나 없는 도금조를 사용하여 전기도금 ...