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검색글 박해덕 1건
무전해니켈 도금액에서 착화제가 도금피막에 미치는 영향
The effect of complexiong agent on the deposit characteristics in the electroless nickel plating solution

등록 2008.08.22 ⋅ 97회 인용

출처 한국표면공학회지, 37권 6호 2004년, 한글 9 쪽

분류 연구

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저자

전준미1) 구석본2) 이홍기3) 박해덕4) 심수섭 5)

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분류
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
무전해니켈도금용액에 사용되는 주요 착화제에 따라 도금액의 온도와 pH를 변화시켜 석출속도및 금속표면에 석출되는 인 석출량과 표면저항 등 도금피막의 특성을 분석하여 각각의 도금액에 사용될수 있는 착화제의 특성을 연구
  • 적어도 하나의 할로겐화은 착물을 함유하고 은 Ag+ 이온용 환원제를 함유하지 않는 은보다 덜 귀한 금속표면상에, 특히 구리상에서 전하교환 반응에 의해 무전해은 Ag 도금...
  • 아연 ㆍ Zinc (Zn) 아연은 건조한 공기 중에서는 거의 산화되지 않으나 습기와 탄산가스와 접촉하면 표면에 염기성 탄산염의 박막이 형성되어 내부의 산화를 방지한다. 아연...
  • 자동차외 상품에 대하여, 통상 다층니켈도금, 분산 니켈도금 (듈니켈도금) 후 크롬도금에서 마이크로포러스크롬도금으로 내식성을 향상시킨다.
  • 폴리 우레탄 · polyurethan 폴리우레탄 결합이라는 구조를 갖고 있기 때문에 이렇게 부르고 있다. 매우 강인한 것이 특징이며, 고무 탄성을 가지고 있다. 이때문에 발포체로...
  • 현재의 반도체 산업, 전자 기기의 제조는, 포토 패브리케이션 기술이 없으면 성립되지 않는다고 해도 과언이 아니다. 포토 패브리케이션이란 사진의 현상 기술을 이용하여 ...