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무전해 Ni-B 도금을 이용한 플라즈마 디스플레이 버스 전극의 확산 방지막 제조
Fablication of the diffusion barrier for Bus electrode of plasma display by electroless Ni-B plating

등록 : 2008.08.22 ⋅ 64회 인용

출처 : 한국재료학회지, 13권 2호 2003년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
구리 버스전극을 UV Lithography 와 전기도금을 통해 제조하였으며, 무전해 니켈-붕소 Ni-B 도금을 이용한 Cu 버스전극 둘레에 1 μm 두께로 확산 방지막을 형성하여 무전해 Ni-B 도금이 Cu 버스전극을 위한 확산방지막 제조방법으로 가능성 여부를 평가

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