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반도체 패키지 기판용 무전해 Ni/Pd/Au 도금기술
Electroless Ni/Pd/Au plating for semiconductor package subdtrate
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분류
반도체패키지 ⋅
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.03
CSP 와 BGA 등의 패키지 기판용 무전해금 Au 도금기술의 연구로, 열처리후의 와이어본딩성과 납땜볼 접속신뢰성의 검토
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PR 법 교류법 단속법 불완전 전류법의 주기적인 직류를 변화하는 방법으로 광택화 작용에 있어서 형태조직을 연구
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화학도금 용액 및 공정, 특히 안정화된 화학도금용액 및 이러한 용액을 사용한 화학도금 공정에 관한 것이다.
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도금공장에 있어서 많이 사용되는 BOD 성분으로는, 킬레이트제의 구연산소다를 중금속염으로 폐수중에 잔존하기 쉬운 구리와, 유해물질로 지정된 크롬을, 폐수 기준정도의 ...
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엔지니어링플라스틱상의 도금공정중 그 중심이 되는 Pre-etching 과 etching 단계를 중심적으로 연구하고 이 두 단계가 도금후의 밀착성에 어떠한 영향을 미치게 되는가...
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각종첨가제의 음극 분극현상에 있어서의 영향에 관한 검토로, 아연도금의 광택 생성기구에 관한 연구