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반도체 화학세정기술동향

등록 : 2014.03.12 ⋅ 19회 인용

출처 : semipark, 5월 16일 2002년, 한글 13 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 전후처리통합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.20
반도체 제조공정에서 첨단 소자 설계채택과 구리/저유전절연막의 통합이 진행되면서 호환가능한 새로운 세정화학액의 필요
  • 차아인산염을 환원제로한 무전해니켈-인 합금도금액으로 납화합물을 사용하지 않는 납-프리 대응제품으로, 석출속도, 광택, 레베링이 우수하며, 액의 노화에 따른 광택저하...
  • 정보가전, 자동차산업에는 전자부품에 있어서 반도체 디바이스의 고기능화에 따라, 접점부품의 성능, 내구성향상, 저코스트화가 되고 있다. 본연구는 접점부품에 사용되는 ...
  • United Chromium 을 인수한 M&T Chemicals 는 SRHS 솔루션으로 시장을 확장했다. SRHS 는 자체 조절 고속욕을 말한다. Gebauer 는 H2SiF6 를 두 번째 촉매로 사용하고 ...
  • 환경 ISO시대에 있어서 전기도금업의 환경부하저감활동은 1970년대보다 한층 강화를 요구하고 있으며, 전기도금욕의 재생기술을 각각을 기술과 관리 시스템면에서 설명
  • MID 와 관련된 JMID 의 자료 참조 자료실 : http://www.jmid.gr.jp/jp/files/presentation/