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무전해 도금에 의한 귀금속 미립자 촉매층의 부여와 습식 에칭에 의한 실리콘의 마이크로 패터닝
Electroless Deposition of Noble Metal Nano Particles as Catalyst and Subsequent Micropatterning of Silicon Substrate by Wet Chemical Etching

등록 : 2014.06.05 ⋅ 17회 인용

출처 : Electrochemistry, 3호 2008년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

電解めっきによる貴金属微粒子触媒層の付与と湿式エッチングによるシリコンのマイクロパターニング

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.01
직경 3 μm 에서 200 nm 범위의 폴리스틸렌 마이크로 입자를 사용하여 실리콘 요철구조의 주기를 나노미터 오더까지 미세화 시키는 것을 검토했다. 또한 2액법 활성화 전처리를 이용하여 팔라듐 입자 촉매의 위치 선택적 부여를 검토하고 무전해 도금의 석출 실버입자를 비교 대조 하여 실리콘 에칭 거동에 미치는 촉매 부여 ...
  • 납땜 조인트의 납 Pb, 특히 반도체 (SC) 부품 핀마무리에 납에 초점을 맞추고 적절한 대체품을 찾는데 직면한 중대한 과제에 중점을 두었다.
  • 이 작업은 철분말의 무전해니켈 도금의 기술적 타당성을 보여주었다. 도금된 분말은 높은수준의 균질성을 나타내며 소결된 콤팩트는 우수한 기계적 특성을 가지고 있다. 분...
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