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고인 Ni-P-Si3N4 복합피막의 특성과 무전해석출
Electroless Deposition and Characterization of High Phosphorus Ni-P-Si3N4 Composite Coatings

등록 : 2008.11.25 ⋅ 38회 인용

출처 : Electrochem. Sci., 2호 2007년, 영어 15 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.19
복합도금은 pH 4.6 ± 0.2, 온도 85 ± 2 ℃, 1 g/L 서브 마이크론 질화규소 입자를 함유하는 차아인산염 환원 무전해니켈도금욕을 조사였다. 도금속도는 일반 Ni-P 및 복합도금 모두에 대해 6~8 µm/시간 이었다. Ni-P 매트릭스 복합도금된 실리콘 질화물 입자의 양은 약 3.5 % 중량 이었다. X-선에너지 분산분석 (EDX)...

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