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무전해 NiP 도금막중에서 인의 분포형태
Phosphorus distribution in electroless NiP deposits

등록 : 2009.07.24 ⋅ 45회 인용

출처 : 일렉트로닉스학회지, 5권 4호 2002년, 일어 7 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.27
착화제 종류를 바꾸어 만든 무전해 Ni-P 도금막의 조성을 전자 프로브 X선미량분석(Electron Probe Microanalysis, EPMA), 크로방전발광분광법등을 이용한 분석으로, 도금 피막중의 P의 편석형태를 검토
  • 와트욕과 저농도 니켈욕 (황산니켈 75 g/l, 염화니켈 110 g/l, 붕산 30 g/l )에서 광택 및 반광택 니켈도금의 성질에 관하여 비교 검토하고, 저농도 니켈도금의 장단점을 설명
  • 인산염피막 형성의 피복을 전기화학적 방법으로 단시간에 평가하는 방법을 개발했다. 즉 인산염 처리욕부터 순차적으로 꺼낸 처리 강판을 전기 분해액인 붕산염 완충액...
  • 설파민산욕에서 코발트-니켈 Co-Ni 전석거동을 여러 욕조성하에 부분 분극곡선을 측정하여 조사하였고, Co-Ni 합금도금피막의 내마모성에 있어서 피막조성의 영향을...
  • 니켈 전주도금 ^ Nickel Electroforming 니켈전주 도금은 니켈 도금의 한 공정으로 두껍게 도금하여 소재로 부터 도금층을 분리한다. 따라서 모재 (소재) 를 기반으로 많은 ...
  • 도금이란? ^ PlatingㆍGalvanizing 넓은 의미에서 도금은 어떤 물체에 다른 물체 막을 앏게 입히는 것으로, 성능과 기능 그리고 외관을 향상할 목적으로하는 처리를 의미한...