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화학구리 도금의 국부 아노드반응 및 국부 캐소드 반응에 있어서 기본조건의 영향
Effects of the main conditions of chemical copper plating on its Local anode reaction and cathod reaction - electrochemical studies on chemical

등록 2009.12.31 ⋅ 44회 인용

출처 금속표면기술, 17권 1호 1966년, 일어 6 쪽

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化学銅メッキの電気化学的研究 (第2報) - 化学銅メッキの局部アノード反応および局部カソード反応に及ぼす基本条件の影響

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리도금의 주요조건이 국소 양극 및 음극 반응에 미치는 영향을 전위 운동 분극법을 사용하여 조사했으며 주요 조건은 용액의 pH, 용액의 성분 및 온도, 파라 포름알데하이드는 용액에서 포름 알데하이드의 공급원으로 사용되었다
  • 반도체 패키지에 관련한 기초적인 도금기술의 연구사레에 관하여 설명하고, 일렉트로닉스 실장에 있어서 선단적인 도금기술과 나노테크노로지의 도금기술 전망에 관하여 설명
  • 도금폐수에 함유된 중금속의 SS처리에 조립(造粒)기술을 이용한 고효율응집분리장치를 적용한 결과의 설명과, 종래 응집분리법과 비교하여, 본장치가 수십배의 처리능력을 ...
  • 수용액에서 납의 표준 전위는 0.12 V 이다. 이 금속은 수소 과전위가 높기 때문에 100 % 에 가까운 음극 효율을 가진 강산성 용액에서 쉽게 전착된다. 수소 과전위 값은 전...
  • 무전해 구리도금 규격 ^ Electroless Copper Specification (JISㆍKS) [도금규격|KS 규격] [무전해JIS규격]
  • 염화아연 도금욕에서의 펄스전해법을 이용하여 만든 아연도금 피막의 결정자의 크기, 표면형태, 결정배향성과 유기첨가제의 영향에 관하여 조사 1. 기본욕으로 PEG 와 안식...