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검색글 Toshiie KURINARA 1건
치환금막의 생성과 형태
Formation and Morphology of Galvanically Substituted Au-Film

등록 2010.01.04 ⋅ 46회 인용

출처 금속표면기술, 19권 6호 1968년, 일어 6 쪽

분류 연구

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置換金膜の 生成と形態

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.28
치환금막의 생성조건과 막의 형태및 성질과의 관련을 비교실험
  • 논 브러싱 전처리와 관련된 좌담회형식의 자료 相原喬二郎氏(日本化学機材<株>) 礒野隆一氏(金属化工技術研究所) 内田大氏(内田プレーティング技術事務所) 斎藤囲氏(関東学...
  • 아황산 Ag 은 착화를 주성분으로한 비시안욕의, 욕조성과 전해조건 등을 변화하여, 도금피막 석출반응의 전기화학적 캐소드분극 곡선측정에 따라, 광택도금 피막의 석출범위...
  • 착화제로서 글루콘산을 사용하여 구리 소재상에 알칼리성 차아인산욕에서 무전해니켈 석출을 연구하였다. 다양한 작동 파라미터 및 용액 성분에 대하여 도금된 니켈-인 Ni-P...
  • 무전해 구리 공정은 전류를 사용하지 않고 적절히 준비된 금속 및 비금속표면에 순수 금속을 전착하였다. 반응은 촉매적이며 일단 시작되면 무기한으로 구리도금을 계속한다...
  • 비시안 알칼리 징케이트 아연도금욕으로 바렐과 라크에 모두 사용가능하다. 광택성이 우수하며 도금편차가 적어 복잡한 제품에 효율적이며 연성이 좋아 후가공성이 좋다.