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검색글 SHozo MIZUMOTO 24건
무전해 구리도금욕중에 있어서 화학평위
Cemcial equilibria in electroless copper plating bath

등록 2010.01.15 ⋅ 44회 인용

출처 표면기술, 41권 9호 1990년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.16
CuSO4 - EDTA - NH2CH2COOH - K4Fe(CH)6 - N(CH2CH2OH)3 - HCHO - H2O 계에 있어서 화학종의 존재형태와 그 화학평위에 관하여 검토하고 TEA 는 헥사시안철산 칼륨의 분해방지 목적으로 첨가한 연구
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  • 0. 소개 1. 적용 범위 및 분야 2. 참고 문헌 3. 정의 4. 샘플링 5. 전기도 금기에 제공 할 정보 6. 기초 금속 처리 전 7. 코팅 요건 8. 전기 도금 후 열처리 9. ...
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  • 6가크롬 도금 또는 기타 경질 윤활성 피막을 대체하기 위해 텅스텐 합금 전기도금조에 사용되는 광택제이다. 본 발명의 도금욕은 유효량의 텅스텐 이온을 포함하고, 텅스텐...