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합성 석영소재 포토마스킹의 습식에칭의 적용
Wet Etching of Synthetic Quartz Substrate for Photomask Application

등록 2014.09.10 ⋅ 28회 인용

출처 표면기술, 55권 8호 2004년, 일어 6 쪽

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기타

合成石英基板フォトマスクへの湿式エッチングの適用

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.14
글라스 소재를 에칭시 노광광에 위상차를 가진 특수한 레벤손형 위상 시프트 기술중, 웨트 에칭에 의한 패턴 프로필의 형성제어가 불가능하여, 포토에칭을 사용한 첨단 포토 마스크제조의 현황에 관하여 소개하였다.
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  • DPA
    DPA ^ N,N-diethyl-2-propyn-1-amino CAS : 4079-68-9 C7 H13 N = 111.180 g/㏖ 무색~황색 투명액상 pH=5.0~8.0 용도 : 니켈도금 레벨링 광택제 첨가량 : 0.1~1 ml/l [DEP] ...
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  • 3가크롬 이온, 착화물, 완충액 및 S-O 또는 S-S 결합을 갖는 황류을 포함하는 3가크롬 전기도금 용액으로 착화물은 크롬 착화물에 안정성 상수를 주기 위해 선택되었다.