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Kishan Gupta 1건
미크로미세가공 의 에칭비율 - 파트 2
Etch Rates for Micromachining Processing—Part II
자료 :
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.09.20
사용되거나 잠재적으로 사용될 수 있거나 마이크로 전자기계 시스템 및 집적 회로의 제조에 사용되거나 잠재적으로 사용될수 있는 53개의 재료 샘플을 준비 하였다.
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니켈-인 합금도금 ^ Nickel-Phosphorus Alloy Plating 인을 합금한 도금으로 [니켈도금욕|전기 니켈도금]과 [무전해니켈도금|무전해 니켈도금]이 있으며, 전기도금이 무전해...
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무전해니켈도금용액에 사용되는 주요 착화제에 따라 도금액의 온도와 pH를 변화시켜 석출속도및 금속표면에 석출되는 인 석출량과 표면저항 등 도금피막의 특성을 분석...
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본 발명은 크롬도금에 관한 것이고,보다 구체적으로 본 발명은 크롬도금조 조성물 및 광택니켈 및 다른 광택 금속 표면 위에 광택 크롬 도금을 하는데 이러한 액조성물을 사...
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Zn-Ni 도금을 정전류 조건 하에서 표면 형태, 화학적 상 조성에 대한 전착 전류 밀도의 영향을 조사하였다. 전류 밀도 10~25 mA cm-2 에서 얻은 Zn-Ni 피막의 내식성을 측정...
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대부분의 아연 또는 아연 합금도금에 사용되는 고내식성 청색 크로메이트로 20~40도에서 고내식성의 균일한 광택성 크로메이트 피막을 얻을 수 있다.