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산성구리 욕에서 역펄스 도금의 침투력 (스로윙파워)
Throwing Power in Pulse Reverse Plating from an Acid Copper Bath

등록 2014.11.11 ⋅ 32회 인용

출처 SUr/Fin, JUn 1992, 영어 7 쪽

분류 해설

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.26
전착공정에서 좋은 침투력을 얻는 것이 바람직하다. 특히 인쇄회로 기판 (PCB) 의 스루홀 도금에서는 전착된 구리의 균일한 분포가 요구된다. 원하는 던지는 힘은 첨가제를 사용하여 전통적인 생산에서 얻는다. 그러나 이러한 첨가제는 PCB 도금공정에서 상당한 비용을 차지한다. 엔지니어링 관점에서, 첨가제를 사용하는 대...
  • 특징 1) 경도가 일정하고 변화가 없다. 2) 광범위한 액온(30~50℃), 첨가량의 사용폭이 넓고, 액 관리가 용이합니다. 3) 전자 조각, 에칭법의 제판에 모두 사용 4) 양호한 레...
  • 나노복합도금의 나노입자 도금형성 기구와 나노입자 강화기구를 소개하였으며, 나노도금의 개발과 응용을 설명하였다. 현 단게에서 나노복합도금의 몇가지 문제점을 분...
  • FRP
    유리섬유 강화 플라스틱 ^ Fiber Reinforced Plastics 그라스 등의 섬유질을 첨가한 플라스틱으로 BMC (Bulk Molding Compound) 또는 SMC (sheet Molding Compound) 가 있다...
  • 니켈-몰리브덴 합금의 붕소 함유 비정질 금속층을 황산니켈, 몰리브덴산소다, 인산붕소, 구연산소다, 나트륨 -1-도데실 설폰산 및 암모니아가있는 전해조에서 음극 전착을 ...
  • 금 이온은 차동 펄스 스트립 전압전류법으로 측정할 수 있다. 0.1 mol/dm3 NaOH 를 함유한 0.9 mol/dm3 KCN 용액을 지지 전해질로 사용하였다. 용액 내 금 이온 농도 27.5~1...