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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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펄스전해 조건이 구리도금 피막의 결정 배향성과 에칭리스에 주는 영향
Effect of Pulse Parameters on the Crystal Orientation and Etching Rate of Copper Films

등록 : 2014.11.21 ⋅ 9회 인용

출처 : 표면기술, 64권 6호 2013년, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

パルス電解条件が銅めっき皮膜の結晶配向性とエッチングレートに与える影響

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.27
결정배향 방법으로 펄스전해법을, 에칭액으로는 펄옥소 2유황산암모늄 수용액을 이용하여, 펄스전해 조건 및 첨가제 유무가 구리도금 피막의 결정배향성과 에칭리스에 주는 영향에 관하여 조사하였다.

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