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구리(ii)-EDTA 욕에서의 펄스전석 효율에 있어서 자장의 영향
Magnetic field effects on the efficiency of pulse deposition of copper from Cu(2)-EDTA baths

등록 : 2008.08.11 ⋅ 71회 인용

출처 : 표면기술, 40권 6호 1989년, 일본어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.07
펄스전해는 캐소드 확산층중의 금속이온, 기타 화학종의 농도가 확산층의 두께의 감소에 따라 회복하여, 캐소드전위가 회복된다. 일반적으로 밀착성의 향상, 전석물의 균일한 두께 등의 효과가 기대되며, 공업적으로 이용가치가 높다.
  • 마그네슘 화성처리는 많은 크롬산염을 이용한다. 환경보호의 측면에서 크롬프리욕의 개발도 시도해 볼수 있기 때문에 이러한 화성처리에 대해서도 설명한다.
  • 염화니켈 도금욕 ^ Nickel Chloride Plating bath 액전압이 낮아 음극효율이 우수하고 두께도금도 할수 있으나, 내부응력이 큰 도금이 되어 연성이 저하된다. 도금색상은 전...
  • 전류효율이 40% 로 높고, 무도금부의 에칭이 없으며, 종래욕의 3~5 배의 도금속도를 가진 새로운 고속 크롬도금욕 HEEF에 관한 설명
  • 전처리 부터 무전해니켈 도금까지의 각 단계에서 알루미늄 기판의 표면형태, 침지 아연-철 도금피막의 구조 및 알루미늄에 무전해니켈 도금의 초기 도금 공정에 대한 연구는...
  • 알루미늄-규소 Al-Si 복합재료의 표면에 촉매활성화 전처리를 적용하고, 다음에 니켈-인 Ni-P 합금피막의 전처리도금 및 산성 무전해도금을 하였다. 피막의 표면형태와 화학...