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정전위 펄스전에에 의한 니켈박막의 제작
Preparation of Thin Nickel Films by Means of Potentiostatic Pulse Electrolysis

등록 2015.03.23 ⋅ 34회 인용

출처 표면기술, 45권 12호 1994년, 일어 2 쪽

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定電位パルス電解によるニッケル薄膜の作製

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.27
50 nm 두께의 부드럽고 얇은 니켈 피막을 준비하기 위해 전위차 펄스전기 분해를 사용하는 방법에 대해 설명한다. 그런 다음 펄스조건과 표면형태 사이의 관계를 연구했다.
  • 아연도금 선재의 내식성과 표면외관 특성의 개선을 위한 크로메이트 피막 형성방법에 관한 것
  • 벤조산나트륨은 농도가 0.03 M 보다 높을때 아연 전착에 차단효과가 있지만 농도가 0.03 M 보다 낮을때 아연핵의 형성속도를 가속화하는 것으로 밝혀졌다. 벤조산은 표면에 ...
  • 아연 전기도금 욕에는 아연이온과 광택제가 포함된다. 광택제는 4차 암모늄기를 포함하는 폴리아민 또는 폴리아민의 혼합물이다. 113.8 구아니신 하이드로 크로라이드 (GHC ...
  • 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금에 부식방지 흑색 크롬산염 피막을 형성할수 있는 화학적으로 안정한 흑색 크롬산염 용액이 제공되며, 성분은 용액에 쉽게 용해 된다. 흑색 크롬산...
  • 버핑 및 연마의 목적은 거친 표면을 매끄러운 표면으로 만드는 것이다. 물론 각 작업물은 다른 상태에 있으므로 다른 절차가 필요하다. 표면이 수천배로 확대되어 들쭉날쭉...