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복합 무전해 도금법에 의한 신규 자성저립의 제작과 그 포스트 CMP 기술에의 응용
Development of New Magnetic Abrasives by using Electroless Composite Coatings and Its Application to the post CMP Technology

등록 : 2015.03.24 ⋅ 5회 인용

출처 : 표면기술, 56권 6호 2007년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への応用

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
CMP 를 대체하는 새로운 기술로서 자기연마법에 착안하여, 이를 이용한 새로운 자성연마의 개발을 목적으로한 실험
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  • R 비ㆍ R ratio [시안화아연도금욕|시안화아연 도금욕]중 알칼리도에 금속아연을 나눈 지수를 말한다. R 비 = (시안화나트륨 + 수산화나트륨 ) ÷ 아연 R 비는 도금욕의 조건...
  • 글리신-구연산 조합은 니켈과의 복합체를 생성하고 도금용액을 안정적으로 만든다.이 글리신-구연산 액을 사용하여 도금 조건, 도금속도, 도금액 수명 및 도금 피막의 인함...
  • 도금액관리 ^ Plating Bath Control 전후처리 전처리 관리 구리도금 [황산구리도금관리|황산구리 도금액 관리] [황산구리관리포인트|황산구리 도금액 관리 포인트] [염소이...
  • 지금까지 언급한 탈지법 만으로는 금속 표면을 완벽히 청정 탈지는 어렵다. 또한 시간이 비교적 오래 걸릴 수 있으며 경우에 따라 값 비싼 시설이 필요할 수 있다. 이에 반...