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복합 무전해 도금법에 의한 신규 자성저립의 제작과 그 포스트 CMP 기술에의 응용
Development of New Magnetic Abrasives by using Electroless Composite Coatings and Its Application to the post CMP Technology

등록 2015.03.24 ⋅ 16회 인용

출처 표면기술, 56권 6호 2007년, 일어 5 쪽

분류 연구

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저자

기타

複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への応用

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
CMP 를 대체하는 새로운 기술로서 자기연마법에 착안하여, 이를 이용한 새로운 자성연마의 개발을 목적으로한 실험
  • 인쇄회로기판은 전자에 대한 공식적인 지식이 없는 사람들에게도 잘 알려져 있다. 덜 알려졌지만 확고하게 자리 잡은 회로 제조방법은 세라믹 하이브리드 마이크로 전자기술...
  • 고온에서 연속작업을 하므로써 높은 경도와 내마모성을 요구하는 재료, 장시간 부식환경에 노출되어 좋은 내식성을 필요로 하는 재료 등의 표면 처리
  • 저융점 솔더를 위한 인듐-주석 합금의 도금을 조사하였다. 이 실험에는 붕불산, 클로라이드, 설페이트와 시안화물의 4 가지 종류의 도금욕이 사용되었다. 도금 조건, 안정성...
  • 밀착성 크롬도금은 소재의 밀착성 철함유 도금처리한 다음 크롬산 양극처리 및 처리된 철 함유 도금에 크롬을 전착시키는 단계를 포함하는 공정을 통해 금속소재상에 얻을수...
  • 시안화구리도금의 광택 결정구조 전류효율 등 여러종류를 검토하고 도금의 내부응력과 일반성질과의 밀접성에 관한 실험으로 욕의 조성 전류조건 첨가제등의 종류에...