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패턴화된 산화탄탈륨 박막에 대한 구리회로의 선택적 전기도금
Selective electroplating of copper lines on pre-patterned tantalum oxide thin films

등록 2015.06.19 ⋅ 32회 인용

출처 Applied Surface Science, 253권 2007년, 영어 8 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.12
반도체에 대한 직접 선택적 금속도금은 특히 인터커넥트 및 쇼트키 장치에 대한 전자장치 기술에 관점을 가지고 있다.이 연구에서는 패턴화된 탄탈룸 산화물 박막에 대한 선택적 구리도금을 조사하였다. 순환 전압전류법 연구에 따르면 두꺼운 산화탄탈 박막은 절연 특성이 있는 반면 임계 값보다 얇은 산화막은 반도체이다....
  • 무전해 니켈 도금에서 인의 함량이 8~10%정도가 기준일 때, 인의 증감에 따른 니켈의 내식성과 내마모성의 경향을 알고싶습니다. 인이 증가하면 내식성이 좋아지는 것으로 ...
  • 최신의 도금 경도를 포함한 물성 시험을 나노인티덴션법과 그 시험기를 소개
  • 니켈 치환 도금형태와 후속의 무전해니켈도금 성막후의 표면형태와의 관계를 조사하고, 그 결과를 기반으로 하여 마이크로범프에 응용하는 실험
  • 무전해도금은 금속은 물론 프라스틱 글라스 세라믹등의 부도체에도 성막이 가능하여, 각종 일렉트로닉스 부품, 자동차 부품 정밀광학용 부품 가정전화 부품 항공기 및 기타...
  • EDTA의 성질, 기레이트 화합물등 착이온에 관계되는 문제와 어떠한 인자가 도금속도에 관계하고 있는지 도금할 때의 속도에 관해 알아보겠다.