로그인

검색

검색글 일렉트로닉스실장 67건
황산구리 욕에서의 고속 구리전석에 있어서 첨가제의 전기화학적 해석
Electrochemical Analysis of Additive in Hig Spped Copper Electrodeposition from Acid Copper SUlfate Bath

등록 : 2016.01.29 ⋅ 20회 인용

출처 : 일렉트로닉스실장학회, 23권 2009년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

エレクトロニクス実装学術講演大会講演論文集 - 硫酸銅浴からの高速銅電析における添加剤の電気化学的解析

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.25
고속도욕에 있어서 고전류밀도를 가한 구리전석의 첨가제 효과에 관하여 전기화학적으로 해석
  • VS
    VS · Na Vinyl Sulfonate ^ Sodium ethylene sulfonate CAS 3039-83-6 C2H3NaO = 130.1 g/㏖ 성상 : 맑은 황색의 액상으로 물에 잘 혼합 순도 : 25 % 광택 니켈 도금에서 VS...
  • 도금피막의 향균성과 도금의 항균제품에 관하여 소개
  • 용융아연 도금강재는 18 세기 중반에 프랑스 인 P. J. Malouin 의해 발명되고 19 세기 중엽 프랑스와 영국에서 실제 조업이 시작되었다. 일본에서는 1906 년 관영 야하타 제...
  • 아연니켈합금전기도금시 발생되는 수소억제에 의한 도금액의 조업조건 안정화 (pH 안정화) 와 이때 발생되는 슬러지를 억제하여 강판위에 양호한 도금층의 제조를 위한 ...
  • 50 nm 두께의 부드럽고 얇은 니켈 피막을 준비하기 위해 전위차 펄스전기 분해를 사용하는 방법에 대해 설명한다. 그런 다음 펄스조건과 표면형태 사이의 관계를 연구했다.