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검색글 Katsuhiko TASHIRO 14건
제2환원제로서 DMAB를 이용한 구리 미세패턴에 있어서 선택적 무전해니켈 도금
Selective electroless nickel deposition on the copper fine atterns by using DMAB as a second reducing agent

등록 2008.08.19 ⋅ 77회 인용

출처 표면기술, 52권 3호 2001년, 일본어 5 페이지

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.12.05
DMAB을 제2환원제로한 무전해니켈 도금의 석출 메카니즘과 선택적 석출성에 관하여 검토한 결과보고
  • 전기도금 조성물 및 이의 사용방법은 특히 소재상의 아연-코발트 피막의 전착을 위한 조성물 및 이러한 조성물을 사용하는 방법에 관한 것이다. [BPS] 3- (2- 벤조티아졸티...
  • 무전해 도금법의 기본적인 특징과 기능, 응용에 관하여, 최근의 연구를 중심으로 해설하고, 약간의 장래전망에 관하여서도 설명
  • 무전해도금 공정은 마이크로 일렉트로닉스, 나노 기술 등 다양한 분야에 적용된다. 환원제의 산화 반응에 의해 공급되는 전자에 의해 금속이 도금되는 과정이 진행되기 때문...
  • 인산염 · Phosphate Salt 인산염(燐酸鹽)은 일반적으로 인산 무기화합물을 말하며. 수소 이온을 금속 이온 등의 양이온을 치환한 염을 말한다. 인 하나와 산소 4개로 구성된...
  • 주석산칼륨 • Potassium Stannate K2SnO3 = 244.9 g/mol |1| CAS 12142-33-5 형상 : 백색분말 물에 용해하며 에타놀에 녹지 않음 주석도금 및 주석치환도금 참고 [주석도금]...