로그인

검색

검색글 인쇄회로 101건
전자 디바이스의 첨단 도금 기술
Advanced Plating Technology for Electronic Devices

등록 : 2016.04.12 ⋅ 11회 인용

출처 : Electrochemistry, 74권 1호 2006년, 영어 10 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.12
PCB 에서의 회로 연결방법으로, PCB 의 경우 구리 도금 기술, 특히 비아필링에 가장 효과적인 첨가제와 전류파형의 선택이 검토 하여 회로의 연결은 범프의 형성과 연결을 검토하였다. 두 가지 새로운 기술인 알루미늄 패드의 니켈 범프 형성과 비시안화금도금에 의한 마이크로범프 형성이 주로 입증되었다. 마...
  • 이 백서는 물과 폐수처리에서 전기화학 기술의 개발, 설계 및 응용을 검토 하였다. 전착, 전기응고 (EC), 전기부상 (EF) 및 전기산화에 특히 중점을 두었다. 300개 이상의 ...
  • 무기 팔라듐 화합물 및 유기은 화합물로 이루어진 군에서 선택된 1종의 1중량 부를 포함하는 세라믹 무전해도금 형성용 조성물.
  • 랙 도금에 최적화 -연성 Zn/Ni 층 증착 -특히 코팅 후 강하게 변형되어야 하는 부품 -매우 높은 요구 사항과 함께 취성 파손 위험이 있는 부품용 -우수한 금속 분포 -11-15%...
  • 전해법을 도입하여 실제 실용화 규모인 230 ㎝× 60 크기의 대형 소재에 선택 흡수 박막의 전착을 실험하였다. 도금액의 조성은 크롬산 280 g/ℓ, 프로피온산 propionic acid ...
  • 구리 금속화에서는 구리 시드층의 저항이 매우 중요하다. 기존에는 MOCVD가 이 목적으로 사용되었지만 무전해 구리도금은 간단한 공정이며 구리 도금의 저항률은 MOCVD에서 ...