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고밀도 시트층형성 무전해도금 프로세스
Highly Adehesive Seed Layer Formning Electroless Plating Process
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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.10.03
에칭 조화의 대체방법으로 자외선(UV)조사에 의한 표면개질기술을 이용하여, 평골한 수지표면에도 고밀착을 만드는 도금 공정의 개발
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무전해 코발트 Co계 합금자성막의 연구 현황에서 자성막의 제작조건, 석출막의 미세구조, 기록매체의 응용연구등 3 분야로 나누어 해설
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30~50 μm 두께의 양극산화 피막을 화성처리한 알루미늄 시료에 집접거리 20 mm 의 렌즈를 이용한 레이저빔을 주사하여, 산화피막의 파괴 제거 거동을 상세히 검토
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비전도성 에폭시 소재의 구리-주석 Cu-Sn 스펙큘럼 합금 금속화는 연속적인 전기화학 공정을 통해 입증되었다. 150 ℃ 에서 이온성액 사용하는 확산방법. Cu6Sn5 및/또는 Cu3...
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피트 · Pit 도금표면에 발생된 작은 홀로 보통은 전기도금에서 음극에 발생하는 수소가스로 인하여 만들어 진다. 도금중 액의 pHㆍ전처리 불량ㆍ금속농도의 과대ㆍ유기물 과...
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■ 삼양사 이온교환수지의 특징 ▶ 도금용수 처리용으로 적합한 양/음이온 혼합수지 ▶ 뛰어난 이온성분 제거능력으로 도금용수 채수에 적합 ▶ 대부분의 수처리장치에 가장 적...