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반도체전극의 무전해 니켈/금 (Ni/Au) 도금
Electroless Nickel/Gold Plating on Semiconductor Electrode

등록 : 2016.10.03 ⋅ 121회 인용

출처 : 표면기술, 66권 10호 2015년, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

半導体電極への無電解ニッケル/金めっき

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.03
반토체실장의 일반적 공법으로 사용되는 무전해 UBM 형성 공정을 사용한 도금기술의 일부에 관하여 소개
  • 바렐도금에 의하여 니켈도금액이 많이 묻어 나오게 됩니다. 폐수중의 붕소농도를 낯추는 방법을 알려 주시기 바랍니다.
  • EDTA를 착화제로한 무전해 구리도금욕의 기본 욕성분인, EDTA, 포르마린, 도금반응등에 따른 부생성물인 메탄올, 기산 및 구리염의 보급에 따라 축적되는 황산염을, FTIR AT...
  • 마이크로전자 와이어 본딩은 집적회로 (IC) 를 인쇄 회로 기판 (PCB) 또는 기타 기판과 전기적으로 연결하는 데 널리 사용되는 비용 효율적인 제조 공정이다. 첫 번째 본드...
  • 티오우레아 · Thiourea Thiourea (티오요소) SC(NH2)2 = g/Mol 무색의 사방성 침상 분말 결정 물과 에타놀에 용해 요소수지 및 염료 의약품 등에 이용 도금에서는 용도가 다...
  • 1979년 4월 19일과 20일, 매사추세츠주 보스턴에서 미국전기도금협회 (American Electroplates Society)의 후원으로 개최된 국제 펄스도금 심포지엄에서 금 Au 의 펄스도금...