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초임계 유체중 아닐에 의한 구리도금막의 개질
Improvement of electrodeposited Copper Films by Annealing in SUpercritical Fluid

등록 2012.07.06 ⋅ 50회 인용

출처 표면기술, 61권 8호 2010년, 일어 4 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Kazuyoshi UENO1) Yuji SHIMADA2) Yoshinori AOKI3) Shigeru YOMOGIDA4) Seishi AKAHORI5) Tomohiko YAMAMOTO6) Takamasa YAMAGUCHI7) AKIKO MATSUYAMA8) Takashi YATA9) Hideo HASHIMOTO10)

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超臨界流体中アニールによるめっき銅膜の改質

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.10
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