도금 첨가제 제조 원료약품 - 반도체 구리 배선공정에서 표면 전처리가 이후 구리 전해/무전해 전착 박막에 미치는 영향

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반도체 구리 배선공정에서 표면 전처리가 이후 구리 전해/무전해 전착 박막에 미치는 영향

Effect of Surface Pretreatment on Film Properties Deposited by Electro-/Electroless Deposition in Cu Interconnection

등록 2017.09.18 ⋅ 34회 인용

출처 한국전기화학, 20권 1호 2017, 한글 6 쪽

분류 연구

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저자

임태호¹⁾ 김재정²⁾

기타

자료

분류 구리전해 ⋅ 반도체배선 ⋅

자료요약

카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2017.09.18

표면 산화물이 이후 전해 전착 및 무전해 전착에 미치는 영향을 파악하고, 표면처리 최적화를 통해 산화물의 선택적 제거를 극대화하여 씨앗층의 손상을 최소화함으로써 전착되는 박막의 성질을 향상에 관한 연구

산성 메탄설폰산 주석 도금욕에 있어서 Cl-MSA의 영향

E-PURE MSA® 의 개발과정에서 Arkema 는 메탄설폰산 기반 도금액의 주석전기도금에 대한 다양한 불순물의 영향을 연구하였다. 다음 기사는 산성 주석 메탄설폰산 도...
세라믹의 무전해니켈 도금

세라믹용으로 제조된 무전해니켈 도금욕을 이용하여 세라믹을 에칭하지 않고, 밀착력이 우수한 도금피막을 석출하는 방법을 설명 [Electroless nickel plating on the ceamics]
무전해도금법을 이용한 Ni-P 아몰포스 합금피복연료전지용 세파레이타의 제작

처음으로 시도되는 도금법을 이용한 아몰포스합금피복된 세파레이타를 제작할 목적으로, 비교적 간편한 Ni-P 합금 무전해도금을 연구
구리 산화막의 밀착성과 막구조

밀착성에 영향을 주는 인자로서, 합금조성과 표면형태를 기본으로, 순수구리와 각종 구리합금에 관하여 산화막의 박리시험, X선(XDR), 주사전자현미경(SEM), 투과전자현미경...
3가크롬 도금에 관한 연구

DMF 욕을 기본으로 실험욕으로 하여 CrCl3 와 DMF 의 혼합비를 변화시킨 상태에서 크롬도금하여 내식성및 균일전착성 등을 검토하여 최적 도금조건과 DMF 첨가의 역할을...