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최소 표면 석출의 마이크로 비아 충진 및 스루 비아 홀의 구리 도금 공정
Copper Plating Process for Filling Micro Vias and Through Via Holes with Minimum Surface Deposition

등록 2018.01.15 ⋅ 64회 인용

출처 WECC, 6월 27일 2013년, 영어 11 쪽

분류 연구

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기타

PCB Differentiation through technology - made in Europe

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.10
구리는 전기 및 열전도 특성과 전기도금 가능성으로 인해 많은 전자장치와 PCB 및 반도체 제조에 사용된다. 특히 전해구리는 PCB 및 IC 패키지 기판의 고밀도 상호연결 (HDI) 제조에 중요한 기술인 마이크로비아를 충진하는 데 널리 사용되었다. 이 연구의 목적은 최대 15 μm 의 낮은 표면 구리두께에 대한 최근 요구 사항을...
  • 음극 확산층의 구리 Cu+1 이온을 아연소재에 도금하는 방법 및 전해욕, 할로겐 이온은 음극 확산층에서 Cu+1 을 안정화하기 위한 유기 포스포네이트 알칼리 구리전해질의 첨...
  • 이 연구에서는 4차 암모늄염 구조를 갖는 니켈 전기도금의 반광택 마감을 위한 새로운 첨가제가 개발되었다. 새로운 첨가제의 유효성은 실험실 규모의 전기도금 테스트와 전...
  • 정확한 스타일의 색상일치를 유지하면서 차이점의 원인을 설명 하였다. 또한 유색 금전착의 개발, 새로운 색상이 예상되는지 여부, 금 Au 합금의 색상이론을 사용하여 새로...
  • 과거에 보고된 공석기구 및 저자의 나노다이아몬드 및 TiO2 나노입자의 복합도금에 관한설명과, 나노입자의 복합화기구에 관한 기초적이고 직감적인 방법을 소개
  • 6가크롬 도금을 대체하기 위해 3가 기반 전해질에서 기능성 3가크롬 도금공정 개발에 대한 최근 연구작업을 논의 하였다. 6가크롬 도금은 뛰어난 내마모성과 내식성을 지닌 ...