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검색글 Gordon Fisher 6건
구리 전기도금 용액과 방법
Copper electroplating solutions and processes

등록 2008.08.29 ⋅ 56회 인용

출처 미국특허, 1993-5252196, 영어 14 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.07
전해 도금용 조성물 및 공정. 조성물은 임계량의 하나 이상의 광택제 및 레벨링제를 특징으로한다. 조성물은 약 10 : 1 이상의 종횡비를 갖는 스루홀을 포함하는 인쇄회로 기판의 스루홀 벽을 도금하는데 특히 유용하다.
  • 전해도금 방법에 의해 구리 박막을 제조하고, 여러가지 분석장비를 이용하여 각각의 첨가제에 따른 영향성을 살펴보는데 그 목적이 있다. 1. PEG4000을 첨가제로 사용시 광...
  • HEEF® HMC 공정은 최신 독점 경질 크롬 공정에 비해 더 미세하고 조밀한 미세 균열 네트워크로 경질크롬도금을 생성하여 내식성이 우수합니다. 일반 경질 크롬 공정...
  • 진공증착법은 수 Ω 이하의 저저항 및 수 ㏀ 이상의 고저항의 제작이 곤란하므로 낮은 TCR 특성을 가지 저항체의 제작을 중심으로 설명하고, 전처리와 재질의 성질이 저항특...
  • 니켈-붕소 Ni-B 피막은 경도가 높고 내마모성이 높아 자동차, 항공 우주, 석유 화학, 섬유 및 전자 산업에 적합하다. 특성 (특히 부식거동) 의 추가 개선은 적용 범위를 확...
  • 내식성이 양호하고 또한 6가크롬의 용출을 최대한 줄임으로써 인체 및 환경에 악영향이 적은 3가크로메이트 도금 시스템을 얻는다.