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검색글 Wade Sonnenberg 5건
구리 전기도금 용액과 방법
Copper electroplating solutions and processes

등록 2008.08.29 ⋅ 45회 인용

출처 미국특허, 1993-5252196, 영어 14 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.07
전해 도금용 조성물 및 공정. 조성물은 임계량의 하나 이상의 광택제 및 레벨링제를 특징으로한다. 조성물은 약 10 : 1 이상의 종횡비를 갖는 스루홀을 포함하는 인쇄회로 기판의 스루홀 벽을 도금하는데 특히 유용하다.
  • 수용액에 Co, Ni 및 Mn 이온에 대한 착화제를 첨가하여 포화자화가 감소된 수직 자기 기록 매체를 안정적으로 제공할 수있는 무전해 도금욕을 얻는다.
  • 세라믹기판에의 도금방법에 관하여 소개
  • MSA 주석도금액 분석 ^ MSA Tin Plating Bath Analysis|1| Sn 분석 도금액 2 ㎖ 를 정확히 코니컬 비이커에 취한다 물 100 ㎖ 와 20 % HCl 10 ㎖ 를 가한다 [로셀염] 5 g 을...
  • 56 Si 2 Mn WA 인장스프링을 사용한 (항공산업에서 일반적으로 사용되는 스프링재질) 염화카드뮴 암모늄의 사용과 다른 길이로 늘어난 인장스피링의 도금효과를 시험하였으...
  • HBOPS ^ Butynediol sulfopropyl ether sodium ^ 2-butyne-1,4-diol-(3-sulfopropyl)ether, Sodium Salt [부틴디올]과 Propan Sultone, [가성소다]의 혼합 축합물 C7 H11 O5...