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검색글 John McCaskie 4건
고전류밀도 황산아연 전기도금 공정과 조성
High current density zinc sulfate electrogalvanizing process and composition

등록 : 2008.09.02 ⋅ 29회 인용

출처 : 미국특허, 2002-0112966, 영어 6 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
고전류밀도 덴드라이트 형성을 감소시키고 산성 아연염으로부터 얻은 아연 피막의 고전류밀도 거칠기, 입자 크기 및 배향을 제어하기위한 고전류밀도 전기아연 도금공정 및 조성물이 제시된다.
  • 납땜의 연(Pb)프리화에 대응하는 전자부품의 표면처리의 동향에 관하여 알려주십시요.
  • - BF 알루미늄; 해양관계 또는 가혹한 분위기에 견딜수 있는 알루마이트 피막 두께; 5 ~ 25 μm 내식성; 염수분무시험에서 ADC12이 600 시간 이상 가능. A5052 재료는 해수에...
  • 이미노삭산욕에 대한 도금속도를 반 연속적으로 측정하는 방법으로 분극저항법을 이용한 실험
  • 탄소 C-, 질소 N- 및 황 S- 도너 리간드와 함께 금 Au(i) 복합체의 화학적 성질을 설명 하였다. 첫번째 부분에서는 알키닐 및 N- 도너 리간드와 함께 금(i) 복합체의 합성을...
  • 니켈-철 합금도금 ^ Nickel-Iron Alloy Plating 하지도금 또는 중간층에 도금하여 니켈을 절약하며 약한 흑색의 니켈도금이 된다. 공업적으로는 니켈이 35~80 % 함유한 [퍼...