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비소의 전착과 비소전착막의 전기화학적 거동
Electrodeposition and electrochemical behaviour of arsenic film in aqueous solution
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.10
반도체 재료로서의 갈륨-비소 GaAs 합금박막을 전해석출법으로 형성할 목적으로, 전단계인 갈륨의 석출과 그 전기화학적 특성에 관하여 검토하고, 산성 또는 알칼리욕에서 비소의 전착막을 만드는 실험
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인쇄배선판의 에칭가공은 각종의 에칭가공액이 있으며, 각각의 특징을 가지고 있느나, 대상금속이 금속구리 이므로, 에칭두께 30~100 μm 의 두께다. 이들의 에칭액의 일반특...
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전기도금에서는 버핑을 추기하지 않고 미세 기계적인 마감처리 할수없는 영역에서 허용가능한 수단으로 광택도금을 형성하는 것이 바람직 하다. 이러한 제약은 버핑 또는 기...
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금속이온의 방해는 EDTA의 첨가에 따라 억제되는것을 알수 있어, 이를 이용한 금속이온을 함유한 시료중의 미량의 염화시안을 정량하는 방법을 검토
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열산화방법을 사용하여 30분간의 열처리로 370~950 도 까지 온도 범위에서 각 조건에서의 발색을 확인하고, 확산현상으로 알려진 산화막의 두게를 정량화 하고 이대의 색을 ...
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지금까지 다양한 종류의 흑색크롬 도금욕이 문헌에 보고되었다. 그러나, 도금욕 조성은 현재 실제 실무에서 아직 확립되지 않았다. 이들 도금물의 물리적, 화학적 특성과 착...